비쥬얼
Technology & R&D
소재 열처리
Sillicon 제조공정 시 냉각 과정 ( Czochralski으로 성장 후 냉각과정에서 도달 가능함) 에서 혼입된 산소 원자가 서로 응집하여
전기적으로 활성화된 분자상 (donor oxygen)을 형성, 실리콘의 비저항(Resistivity)에 크게 영향을 미친다.
Sillicon 제조공정 시 냉각 과정 ( Czochralski으로 성장 후 냉각과정에서 도달 가능함) 에서 혼입된 산소 원자가 서로 응집하여
전기적으로 활성화된 분자상 (donor oxygen)을 형성, 실리콘의 비저항(Resistivity)에 크게 영향을 미친다.